在查网,资料下载平台
首页
使用微信扫一扫登录

SJ/T 10627-1995 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法

电子行业标准(SJ)

标准编号:SJ/T 10627-1995

中文名称:通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法

发布日期:1995-04-22

实施日期:1995-10-01

技术归口:

批准发布部门:电子工业部

首页预览图

下载信息


立即下载

大家都在看

  • SJ/T 10055-1991 2CZ58型硅整流二级管详细规范
  • SJ/T 11427-2010 基于GNSS精密进近局域增强系统(LAAS)的空间信号格式
  • SJ/T 10519.07-1994 塑料注射模零件 直导套
  • SJ/T 11409-2009 软件构件模型
  • SJ/T 2658.8-2015 半导体红外发射二极管测量方法 第8部分:辐射强度
  • SJ/T 10519.20-1994 塑料注射模零件 浇口套
  • SJ/T 10168.3-1991 真空开关管用异型制品:3.铜铋银合金
  • SJ/T 11412-2010 防静电洁净工作服及织物通用规范
  • SJ/T 10380-2012 工业用酸洗石英砂
  • SJ/T 10254-1991 半导体集成电路CB301型CMOS模拟开关详细规范
  • 在查网
  • 收藏本站
  • 最新更新
  • 返回首页

©2025 在查网 https://www.zaicha.com

下载的资料仅可用于个人学习、交流使用,未经许可不得用于商业盈利用途!

皖ICP备2025091657号