YS/T 38.3-2023 高纯镓化学分析方法 第3部分：痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法

标准编号：YS/T 38.3-2023

中文名称：高纯镓化学分析方法 第3部分：痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法

英文名称：Methods for chemical analysis of high purity gallium-Part 3: Determination of trace impurity elements contents-Glow discharge mass spectrometry

发布日期：2023-04-21

实施日期：2023-11-01

提出单位：全国有色金属标准化技术委员会、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会

技术归口：全国有色金属标准化技术委员会、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会

批准发布部门：工业和信息化部

起草人

刘红、刘鹏宇、胡芳菲、杨复光、赵景鑫、孙道儒、朱赞芳、汪洋、李俊需、李铭、马媛、程平

起草单位

国合通用测试评价认证股份公司、国标（北京）检验认证有限公司、广东先导稀材股份有限公司、南京金美镓业有限公司、厦门市科力电子有限公司、北京清质分析技术有限公司、贵研检测科技（云南）有限公司、合肥中晶新材料有限公司

标准范围

本文件规定了高纯镓中痕量杂质元素含量的测定方法。

本文件适用于高纯镓中痕量杂质元素含量的测定。各元素测定范围见表1。

首页预览图