SJ/T 11498-2015 重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法

标准编号：SJ/T 11498-2015

中文名称：重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法

发布日期：2015-04-30

实施日期：2015-10-01

技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

批准发布部门：工业和信息化部

起草人

何友琴、马农农、何秀坤 等

起草单位

信息产业专用材料质量监督检验中心、工业和信息化部电子工业标准化研究院、苏州晶瑞化学有限公司等

标准范围

本标准规定了用二次离子质谱法(SIMS)对重掺硅衬底单晶体中氧浓度总量的测试方法。 本标准适用于硼、锑、砷、磷的掺杂浓度＜0.2％（1×10∧20at·cm-3）的硅材料。特别适用于电阻率在0.0012Ω·cm～1.0Ω·cm的p型硅材料和电阻率在0.008Ω·cm～0.2·cm的n型硅材料。

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