GB/T 20176-2025 表面化学分析二次离子质谱用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

标准编号：GB/T 20176-2025

代替以下标准：GB/T 20176-2006

中文名称：表面化学分析二次离子质谱用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

英文名称：Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials

发布日期：2025-06-30

实施日期：2026-01-01

提出单位：全国表面化学分析标准化技术委员会

归口单位：全国表面化学分析标准化技术委员会

批准发布部门：中国科学院

起草人

李展平、郭冲、刘婕、刘兆伦、马静怡、张硕、吴美璇、和平、王富芳、孙令辉、李芹、周凌、刘可心

清华大学、中国人民公安大学、中国矿业大学（北京）、北京大学

本文件详细说明了用标定的均匀掺杂物质（用注入硼的参考物质校准）确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×10¹⁶ atoms/cm³～1×10²⁰ atoms/cm³。