XB/T 524-2023 高纯金属钇靶材

标准编号：XB/T 524-2023

中文名称：高纯金属钇靶材

英文名称：High purity yttrium sputtering target

发布日期：2023-12-20

实施日期：2027-07-01

提出单位：全国稀土标准化技术委员会

技术归口：全国稀土标准化技术委员会

批准发布部门：工业和信息化部

起草人

钟嘉珉、吴道高、杨宏博、张小伟、王志强、陈德宏、贾帅广、申凌燕、姚南红、赵二雄、王爽、徐会兵、张艳岭、钟兰英、李雅民、刘荣丽、张先恒、章立志、陈燕、刘鑫、宋冠禹、申立汉

有研稀土新材料股份有限公司、湖南稀土金属材料研究院有限责任公司、虔东稀土集团股份有限公司、包头稀上研究院、有研稀土高技术有限公司、福建省金龙稀土股份有限公司、赣州晨光稀土新材料有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司

本文件规定了高纯金属钇靶材的分类、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及随行文件。

本文件适用于真空熔铸法、粉末冶金法制得的高纯金属钇靶材，主要用于电子信息、涂层和显示等领域。