YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶

标准编号：YS/T 719-2009

中文名称：平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶

发布日期：2009-12-04

实施日期：2010-06-01

技术归口：全国有色金属标准化技术委员会

批准发布部门：工业和信息化部

起草人

李智超、杨太礼 等

起草单位

利达光电股份有限公司

标准范围

本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。

首页预览图