YS/T 1025-2015 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
标准编号:YS/T 1025-2015
中文名称:电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
发布日期:2015-04-30
实施日期:2015-10-01
技术归口:全国有色金属标准化技术委员会
批准发布部门:工业和信息化部
起草人
姚力军、王学泽、丁照崇等
起草单位
宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、北京天龙钨钼科技股份有限公司等
标准范围
本标准适用于电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材,以下简称高纯钨及钨合金靶。
首页预览图
下载信息
大家都在看
- YS/T 1076-2015 钛镍合金板材
- YS/T 823-2012 烧结钨板坯
- YS/T 95.2-2016 空调器散热片用铝箔 第2部分:涂层铝箔
- YS/T 1115.8-2016 铜原矿和尾矿化学分析方法 第8部分:镁量的测定 火焰原子吸收光谱法
- YS/T 665-2018 重熔用精铝锭
- YS/T 708-2009 镍精矿生产能源消耗限额
- YS/T 977-2014 单晶炉碳/碳复合材料保温筒
- YS/T 535.5-2009 氟化钠化学分析方法 第5部分:可溶性硫酸盐含量的测定 浊度法
- YS/T 587.11-2006 炭阳极用煅后石油焦检测方法 第11部分:颗粒稳定性的测定
- YS/T 1158.3-2016 铜铟镓硒靶材化学分析方法 第3部分:铝、铁、镍、铬、锰、铅、 锌、镉、钴、钼、钡、镁量的测定 电感耦合等离子体质谱法